陈光华
1958年毕业于兰州大学物理系,1967年吉林大学电子工程系研究生毕业,现任北京工业大学新材料研究所所长,是非晶态半导体物理、新型超硬涂层与宽带隙电子薄膜材料等领域的知名专家。负责并承担多项国家重大科研项目,取得多项具有国际先进水平的成果。在国内外核心刊物上发表学术论文380多篇,其中近百篇被SCI、EI、ISTP收录,先后获得10项国家与省部级科技进步奖。已培养博士生24名,硕士生70余名。目前承担国家重要研究课题多项(其中973一项)。
Representative Publications:
1. Optical absorption edge characteristics of cubic boron nitride thin films,Appl. Phys .Lett. , 75(1), 10(1999).
2. Crystallization and orientation C60/polymethyl methacrylate films, Appl.Phys.Lett., 72(25), 3294(1998).
3. Influence of dc substrate bias voltage on c-BN films by radio frequency sputter, Diamond and Related Materials, 9(9-10),1779(2000).